Valonix 유체 시스템 — 순도를 위해 설계된 특수가스 밸브[email protected] | 견적 요청
반도체 제조용 특수가스 밸브

반도체 팹 가스 공급

반도체 제조는 다른 거의 모든 산업보다 더 많은 특수가스를 사용하며, 각각의 가스는 일련의 밸브를 거쳐 장비에 도달합니다. 실린더 캐비닛에서 밸브 매니폴드 박스를 거쳐 공정 챔버의 사용지점 격리까지 모든 밸브는 순도를 보호하고 위치를 확인하며 인터록 시 안전하게 폐쇄해야 합니다.

십억분율 수준의 오염도 막 특성을 바꾸거나 웨이퍼 로트 전체를 폐기시킬 수 있습니다. 바로 이 때문에 팹 가스 시스템은 전해연마된 접액표면, VCR 면실링 연결 및 헬륨 누설 인증을 갖춘 UHP 다이어프램 밸브를 표준으로 삼습니다.

가스 및 밸브 요구사항

실란, 디클로로실란, 암모니아, 삼불화질소, 염화수소, 염소, 아르신 및 포스핀은 접액 재질에 매우 다른 요구사항을 제시합니다. 자연발화성 및 유독가스는 입증된 안전 상태를 갖춘 상시폐쇄 공압 밸브가 필요하고, 부식성 할라이드는 호환되는 다이어프램 합금이 필요합니다.

  • 증착: SiH4, DCS, NH3, NF3
  • 식각: Cl2, HCl, HBr, NF3
  • 도펀트: 캐리어 가스 중 AsH3, PH3, B2H6
  • 벌크: N2, Ar, He, H2, O2

가스 야드에서 사용지점까지

전형적인 구성 경로는 실린더 밸브, 고압 차단, 이단 레귤레이터, VMB 프로세스/퍼지 밸브, 분배 헤더, VMP 분기 밸브, 그리고 마지막으로 장비의 사용지점 UHP 다이어프램 밸브입니다. 체크밸브는 각 분기를 역류 이동으로부터 보호합니다.

  • 가스 야드의 실린더 및 레귤레이터
  • 퍼지 및 벤트 인터록을 갖춘 VMB
  • VMP 분기 분배
  • 사용지점 UHP 다이어프램 격리

적격성 및 문서화

팹 프로젝트는 보통 헬륨 누설테스트 기록, 재질 추적성, 표면 마감 데이터 및 클린룸 포장 증빙을 요구합니다. 패널 단위가 아닌 밸브 단위로 이를 수집하면 장비 인증과 이후 확장이 간소화됩니다.

  • 밸브별 헬륨 누설 기록
  • 소재 및 표면 마감 인증서
  • 클린룸 이중 봉투 포장

추천 밸브 계열

자주 묻는 질문

팹 UHP 라인에는 어느 밸브 유형이 표준인가요?

VCR 면실링 단부를 갖춘 상시폐쇄 공압 UHP 다이어프램 밸브가 표준이며, 수동 밸브는 정비 격리에 사용됩니다.

면실링 연결이 선호되는 이유는 무엇인가요?

이들은 최소한의 데드볼륨으로 재현성 있는 금속 대 금속 실링을 제공하며 용접 헤더를 건드리지 않고 재조립할 수 있습니다.

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